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Eksma 硒化鋅（ZNSE）窗口片 由于透射范圍非常廣，可覆蓋0.6-22 µm的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，因此生長的ZnSe作為高光學(xué)質(zhì)量的材料可用于制造大功率IR激光器的光學(xué)組件（窗口片，反射鏡，透鏡）。

Eksma 硒化鋅（ZNSE）透鏡 硒化鋅（ZnSe）是紅外應(yīng)用中受歡迎的材料。由于透射范圍很廣，可覆蓋0.6-22 µm的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，因此生長的ZnSe作為高光學(xué)質(zhì)量的材料可用于制造光學(xué)組件。

Eksma 硅（SI）反射鏡 鍍膜硅基板較常用作CO2激光器的反射鏡。其優(yōu)點是良好的耐久性，熱穩(wěn)定性和相對較低的成本。總反射器在光束透射系統(tǒng)中用作后反射器，并在外部用作折彎鏡。

Eksma 氟化鈣（CAF2）窗口片 低溶解度和寬透射范圍使其可用于許多應(yīng)用，包括：UV激光系統(tǒng)的鏡面基板； 用于制造窗口片的基材，用于UV，IR應(yīng)用的鏡片。

Eksma 氟化鋇（BAF2）窗口片 氟化鋇用于從紫外線到紅外光的光學(xué)窗，棱鏡和透鏡，也可以用作紅外激光窗或透鏡。建議將BaF2用作需要高抗輻射性的真空紫外線窗口。BaF2的溶解度低于LiF，但比MgF2和CaF2溶解度更高。

Eksma 氟化鋇（BAF2）透鏡 氟化鋇（BaF2）用于從紫外線到紅外光的光學(xué)窗，棱鏡和透鏡，也可用作紅外激光窗或透鏡。建議將BaF2用作需要高抗輻射性的真空紫外線窗口。BaF2的溶解度低于LiF，但比MgF2和CaF2溶解度更高。

Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2 BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。

Eksma 薄膜偏振片（56度角）-1 BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。